近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司在上海市临港新片区隆重举行“中微大厦”落成暨22周年庆典。临港管委会等相关政府领导、股东代表、客户代表、建筑和装修商代表、供应商代表、行业合作伙伴等嘉宾齐聚滴水湖畔。中微公司3640余名上海及外地员工通过现场或线上方式参加了这次盛会，共同见证中微公司发展历程中的又一里程碑时刻。

“中微大厦”外景

人均成本不到国际公司的一半

庆典仪式主会场在中微公司新总部“中微大厦”举行。活动伊始，中微公司创始人、董事长兼总经理尹志尧登台致辞，向各界来宾表示最热烈的欢迎与最衷心的感谢。

他回顾了公司22年来的创业历程：22年前，我们从零开始，怀揣着“建立以中国为基地，全球一流的半导体设备公司”的初心，在张江一间不大的楼房里，踏上了“攀登之路”。如今，公司已开发出54种高端半导体设备，包括26种高能和低能等离子体刻蚀机设备，24种各类薄膜设备、化学机械抛光设备和量检测设备。刻蚀和薄膜设备的加工的精度已经达到了原子级水平。

截至2026年6月底，公司累计已有超过8800个反应台在国内外220余条生产线实现量产。自2012年至今，中微公司已连续14年保持平均年销售35%以上的增长，人均年销售额达到了450万元，和国际领先的设备公司持平。但中微公司的人均成本不到国际公司的一半，公司的劳动生产率远高于国际领先的设备公司。

尹志尧博士致辞

尹志尧进一步展望了公司的未来蓝图：中微公司正加速推进“有机生长”与“外延拓展”相结合的三维立体生长战略。五年内中微公司将通过自主开发与外延并购，覆盖至少60%以上、100多种半导体高端设备，到2035年在规模上、产品竞争力和客户满意度上成为全球第一梯队的半导体设备公司。中微公司的生产和研发厂房总面积将达到90万平方米，是原有厂房面积的30倍，年生产能力将提升至700亿元以上。公司持续践行"五个十大"的企业文化，凝炼内部传承的"中微之书"，到2027年也将对外出版《科创企业发展壮大的五个十大》之书。

尹志尧最后说：“我们的目标一定要达到！我们的目标一定能达到！”

中微公司奠基人和领导团队

随后，中国(上海)自由贸易试验区临港新片区管理委员会党工委副书记吴晓华登台致辞，对“中微大厦”的落成表示热烈祝贺，充分肯定了中微公司在推动集成电路关键设备国产化、助力临港新片区建设世界级产业集群方面所作出的突出贡献，并表示临港新片区将继续以优质的营商环境和服务保障，全力支持中微公司扎根临港、放眼全球、做大做强。股东代表、客户代表、合作伙伴、建筑单位代表等也先后致辞发言。

吴晓华致辞

硬核实力筑基，平台化战略纵深推进

回顾过去22年，中微公司始终聚焦世界科技前沿，深耕微观加工领域的高端关键设备。中微公司始终站在先进制程工艺发展的最前沿，绝不抄袭和复制国外的标配设备，一直坚持“技术的创新、产品的差异化和知识产权保护”的基本原则。公司保持高强度研发投入，一年就同步推进六大类、二十余款新设备的开发；2025年研发投入约37.4亿元，占全年营业收入比重达30.2%，大幅高于科创板上市公司平均水平。展望未来三至五年，公司计划累计投入约130亿元研发资金，开发上百种新的高端设备。

在坚持自主研发的同时，中微公司的平台化战略也通过“外延拓展”取得了关键突破。近期，中微公司发行股份及支付现金购买杭州众硅电子科技有限公司（以下简称“杭州众硅”）64.69%股权并募集配套资金项目圆满收官，成为科创板首单适用并购重组简易审核程序的案例。杭州众硅是国内少数掌握12英寸高端化学机械抛光（CMP）设备核心技术并实现量产的企业，其CMP设备与中微公司现有的刻蚀、薄膜沉积等干法设备形成明确互补，标志着中微公司向平台化、集团化又迈出了关键一步。

值得一提的是，中微公司参与设立的智微资本一期基金自2025年9月启动投资以来，已基本完成投资任务。智微资本二期基金已筹备就绪，蓄势启航。

从一张白纸到如今的行业领军者，从第一款刻蚀设备到覆盖等离子体刻蚀、薄膜沉积、MOCVD、CMP等多条产品线，中微公司用22年时间完成了从零到一的突破，实现了技术积累与市场拓展的双重跨越。随着“中微大厦”的全面投入使用，中微公司的未来发展蓝图正徐徐展开。

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